空氣分子污染（AMC）潔凈室的氨氣/氟化氫/氯化氫氣體的高精度監(jiān)測(cè)
先進(jìn)半導(dǎo)體制造對(duì)氣體污染物濃度檢測(cè)嚴(yán)苛，避免影響芯片良品率，氨氣屬于堿性污染物（MB），會(huì)造成保護(hù)層顯影不良；氟化氫、氯化氫屬于酸性污染物（MA），能誘發(fā)硼污染 ，需將其濃度嚴(yán)格管控在極低水平，半導(dǎo)體晶圓廠常要求以低于1×10-9的水平測(cè)量，未來(lái)甚至可能要求低于0.1×10-9 。
ABB OA-ICOSTM氣體分析儀延續(xù)Los Gatos Research 的優(yōu)秀性能和輝煌業(yè)績(jī)，采用離軸積分腔輸出光譜專利技術(shù)，這是第四代腔增強(qiáng)吸收技術(shù)。OA-ICOSTM 工業(yè)痕量氣體分析儀旨在以優(yōu)異的靈敏度、準(zhǔn)確度、精密度和響應(yīng)時(shí)間，滿足客戶的苛刻要求。它簡(jiǎn)單易用，可在幾分鐘內(nèi)啟動(dòng)，無(wú)需現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)，并且只需極少的預(yù)防性維護(hù)。
該系列氣體分析儀非常適用于：
? 空氣分子污染（AMC）監(jiān)測(cè)：用于確保半導(dǎo)體晶圓廠（FAB）工藝和人員的健康安全
? 前開(kāi)式晶圓傳送盒（FOUP）和氣相沉積室監(jiān)測(cè)
與傳統(tǒng)的光腔衰蕩光譜技術(shù)相比，離軸ICOS 技術(shù)具有諸多優(yōu)勢(shì)，例如：更加可靠耐用、更短測(cè)量時(shí)間、使用的光腔和反射鏡可現(xiàn)場(chǎng)維修。
所有ABB 儀器均內(nèi)置計(jì)算機(jī)（采用Linux 操作系統(tǒng)），該計(jì)算機(jī)會(huì)將每次分析的結(jié)果和相關(guān)指標(biāo)存儲(chǔ)在內(nèi)部硬盤上，從而實(shí)現(xiàn)無(wú)需人員值守的長(zhǎng)期運(yùn)行。相關(guān)數(shù)據(jù)則可以通過(guò)模擬、數(shù)字（RS232）和Modbus輸出方式源源不斷地導(dǎo)出。此外，這系列儀器還可以通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制，用戶無(wú)需身處現(xiàn)場(chǎng)，就可以控制儀器、從儀器中獲取數(shù)據(jù)，以及對(duì)儀器進(jìn)行診斷。該系列儀器還可以保存所測(cè)氣體的完整光譜，用于故障排除，甚至在過(guò)程發(fā)生意外變動(dòng)后，遠(yuǎn)程優(yōu)化分析儀。
功能和優(yōu)勢(shì)
? 支持HF、HCI、NH3 的單氣體或多氣體配置
? 提供高精度、準(zhǔn)確的H2O 測(cè)量結(jié)果
? 提供0-5V 和4-20 mA 模擬輸出（標(biāo)配），以及Modbus TCP（選購(gòu)）
? 優(yōu)化數(shù)據(jù)處理，在測(cè)量亞ppb 級(jí)別濃度時(shí)，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異性能
? 提供觸控?cái)?shù)字顯示屏，顯示氣體濃度和分析儀的狀態(tài)
? 提供主要密碼保護(hù)，確保分析儀和數(shù)據(jù)安全
? 經(jīng)過(guò)優(yōu)化的零氣性能，以可靠地確認(rèn)過(guò)程事件
? 提供可定制的校準(zhǔn)套件和性能認(rèn)證文件包
? 堅(jiān)固耐用；所需的維護(hù)工作很少并且花費(fèi)較低
? 可輕松更換過(guò)濾器等耗材和正常老化部件（泵隔膜）
? 服務(wù)工程師可現(xiàn)場(chǎng)診斷并更換其他大多數(shù)部件
? 鏡面清潔可現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，無(wú)需返回工廠費(fèi)時(shí)維修
GLA231-EAA
項(xiàng)目（氣體） | NH? | H?O |
精度（1σ） | <1 ppb（1 秒）；<0.3 ppb（10 秒）；<0.1 ppb（100 秒） | <50 ppm（1 秒）；<20 ppm（10 秒）；<10 ppm（100 秒） |
檢測(cè)限（LOD） | 0.3 ppb（100 秒） | 50 ppm（100 秒） |
準(zhǔn)確性 * | ±0.3 ppb 或讀數(shù)的 5%，以較高者為準(zhǔn) | >7,000 ppm；=1% FSD |
不同分析儀的結(jié)果差異（相對(duì)于平均值，10 秒） | ±0.4 ppb 或讀數(shù)的 5%，以較高者為準(zhǔn) | ≤1000 ppm；=±10% |
線性測(cè)量范圍 | 高達(dá) 10,000 ppb | 高達(dá) 30,000 ppm |
樣品流量（lpm） | 1.4 - 2.4 | - |
響應(yīng)時(shí)間（T?? - T??） | 10 秒 | - |
GLA231-HFHC & HF
項(xiàng)目（氣體） | HCl** | HF | H?O |
精度（1σ） | <0.3 ppb（1 秒）； <0.1 ppb（10 秒）； <0.035 ppb（100 秒） | <0.1 ppb（1 秒）；<0.05 ppb（10 秒）； <0.025 ppb（100 秒） | <25 ppm（1 秒）； <10 ppm（10 秒）； <5 ppm（100 秒） |
檢測(cè)限（LOD） | 0.1 ppb（100 秒） | 0.075 ppm（100 秒） | 25 ppm（100 秒） |
準(zhǔn)確性 * | ±0.15 ppb 或讀數(shù)的 5%，以較高者為準(zhǔn) | ±0.1 ppb 或讀數(shù)的 5%，以較高者為準(zhǔn) | >7,000 ppm；=1% FSD |
不同分析儀的結(jié)果差異（相對(duì)于平均值，10 秒） | ±0.2 ppb 或讀數(shù)的 5%，以較高者為準(zhǔn) | ±0.2 ppb 或讀數(shù)的 5%，以較高者為準(zhǔn) | ≤1000 ppm；=±10% |
線性測(cè)量范圍 | 高達(dá) 2,000 ppb | 高達(dá) 2,000 ppb | 高達(dá) 30,000 ppm |
樣品流量（lpm） | 1.1 - 1.9 | - | - |
響應(yīng)時(shí)間（T?? - T??） | 25 秒 | 25 秒 | - |
* 適用于典型的半導(dǎo)體晶圓廠：在設(shè)定的19°C 和23°C 溫度范圍內(nèi)，在至少1 小時(shí)內(nèi)，變化范圍在±1°C。
**HCl 測(cè)量?jī)H適用于GLA231-HFHC 型號(hào)的分析儀。
一般參數(shù)：
測(cè)量速率： 0.01–1 Hz（用戶可選）
采樣條件： 工作溫度：0°-45°C
環(huán)境濕度：相對(duì)濕度<99%，無(wú)凝露
入口壓力：分析儀入口處為0-0.35巴（0-5 磅力/平方英寸）
數(shù)據(jù)輸出：RS232、模擬、以太網(wǎng)、USB、ModbusTM1 TCP/IP
電源要求：170 W（穩(wěn)態(tài)）, 配備ACC-DP3H 外置泵時(shí)，最大功率為290 W
尺寸（高x 寬x 深）： 22 × 48 × 61 厘米（8.75 × 19 × 24 英寸）
重量： 29 公斤（64 磅）
標(biāo)志和認(rèn)證： CE、CSA、IEC、CB 體系
訂購(gòu)信息：
OA-ICOS? GLA231-EAA NH3 和H2O 高性能機(jī)架式分析儀
OA-ICOS? GLA231-HF HF 和H2O 高性能機(jī)架式分析儀
OA-ICOS? GLA231-HFHC HCl、HF 和H2O 高性能機(jī)架式分析儀
產(chǎn)地：ABB
